今日解读！大模型热度依旧，落地应用仍需破局：周鸿祎谈人工智能发展新挑战

大模型热度依旧，落地应用仍需破局：周鸿祎谈人工智能发展新挑战

北京讯，6月6日，360公司创始人、董事长兼CEO周鸿祎在360AI新品发布会暨开发者沟通会上表示，自去年大模型技术发布以来，虽然取得了长足的进步，但在落地应用方面仍然存在较大的挑战，离用户还比较远。

周鸿祎指出，大模型技术拥有强大的学习和处理能力，能够在自然语言处理、计算机视觉等领域取得卓越的成果。然而，大模型的应用场景仍然比较局限，主要集中在科研和开发领域，尚未真正走进大众生活。

究其原因，主要有以下几点：

• **大模型的训练和使用成本高昂。**大模型需要大量的算力和数据进行训练，这对于大多数企业和个人来说都是难以承受的。
• **大模型的易用性和可解释性差。**大模型的内部结构复杂，普通人难以理解和使用，也无法解释其做出决策的依据。
• **大模型存在伦理问题。**大模型可能会被用于恶意目的，例如制造虚假信息或操纵舆论。

针对这些挑战，周鸿祎建议：

• 加强大模型的基础研究，降低训练和使用成本。
• 开发更加易用和可解释的大模型。
• 建立大模型的伦理规范，防止其被滥用。

周鸿祎强调，大模型技术拥有广阔的应用前景，但其发展也面临着诸多挑战。只有共同努力，解决这些挑战，才能让大模型技术真正走进大众生活，服务社会。

除了周鸿祎的观点，业界人士也对大模型的未来发展表达了看法。

• **中国人工智能学会副理事长、清华大学教授唐杰表示，**大模型技术是人工智能发展的必然趋势，但其落地应用需要一个长期的过程。在未来，大模型技术将与其他人工智能技术融合发展，在更多领域发挥作用。
• **百度副总裁、百度研究院院长吴恩达表示，**大模型技术已经取得了重大突破，但仍然处于早期发展阶段。未来，大模型技术将更加开放，更加易用，为更多开发者和用户所用。

总体而言，大模型技术正在快速发展，但其落地应用仍需破局。只有解决成本高、易用性差、伦理问题等挑战，大模型技术才能真正发挥其潜力，服务社会。

光刻机概念再掀热潮 国风新材连收四涨停

北京 - 6月17日，A股市场光刻机概念板块再度走强，多只相关股票涨幅居前，其中国风新材(SZ: 002879)更是连收四个涨停板，涨势喜人。

利好政策频出 产业发展前景广阔

近期，利好政策频出，为光刻机产业发展注入强劲动力。5月，国务院印发了《新一代信息技术产业发展规划》，明确提出要大力发展光刻机等关键核心技术。6月，国家发展改革委、工业和信息化部等部门联合印发了《关于加快推进产业数字化转型升级的指导意见》，提出要加快关键技术攻关，突破光刻机等重大技术瓶颈。

在政策的利好推动下，光刻机产业发展前景广阔。据市场研究机构预测，未来几年全球光刻机市场将保持快速增长，预计到2025年市场规模将突破2000亿美元。

国风新材深耕光刻胶领域 研发实力雄厚

国风新材是国内领先的光刻胶材料研发商和生产商，公司深耕光刻胶领域多年，研发实力雄厚，拥有多项核心技术专利。公司产品广泛应用于集成电路、平板显示、LED等领域，并已与多家国内外知名企业建立了合作关系。

近年来，国风新材不断加大研发投入，积极攻克光刻机关键技术，取得了显著成果。公司成功研发了多款高性能光刻胶产品，填补了国内空白，打破了国外技术垄断。

未来可期 强者恒强

在光刻机概念板块走强的背景下，国风新材的强势表现无疑是其自身实力的体现。公司未来发展可期，有望在光刻机国产化进程中扮演重要角色。

行业人士表示，光刻机是集成电路制造的核心设备，是国家信息安全和产业自主的重要基础。随着国内半导体产业的快速发展，光刻机国产化需求日益迫切。在政策支持和市场需求的共同推动下，光刻机产业有望迎来爆发式增长。

投资者应理性投资 关注公司基本面

不过，业内人士也提醒投资者，应理性投资，关注公司基本面。光刻机产业技术壁垒较高，竞争激烈，投资者在投资时应谨慎评估公司的研发实力、产品竞争力等因素。

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